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UHP Tied Diaphragm Low Pressure VCR(1/4” 3/8” 1/2” 3/4”) DRA200 시리즈는 초고순도 반도체 제조용 Gas Cabinet, 특수 가스 라인, Valve Manifold Boxes, 기타 연구실 등에 적합하도록 개발된 Tied type 저압용 Pressure Reducing Regulator입니다. ◈ 다이아후렘과 메인밸브를 연결시킨 Tied-Diaphragm 타입으로 밸브시트에 이물질이 형성되더라도 압력이 누설되지 않도록 최고의 안전성을 고려하여 설계된 제품입니다. ◈ 이물질 발생을 방지하기 위해 DI water 세정과 표면은 B.A. 25Ra, E.P. 10Ra 또는 5Ra microinch등급까지 처리되었습니다. ◈ 특히 독성 가스, 발화성 가스, 고부식성 가스 등으로 인해 다이아후렘이 파열되는 것으로부터 보호하는데 유용합니다. ◈ Locking-plate seal system (당사 특허 #10-0753280)적용으로 파티클(particle) 방지 기능이 더욱 강화되었습니다. ◈ 입구 압력은 3,000psig(210bar) or 600psig (42bar)이고 출구압력은 5psig(0.3bar)에서 최대 250psig(17bar)까지 사용 가능하며, 용도에 따라 2-ports, 3-ports 또는 4-ports 선택 가능합니다. ◈ 용접, 조립, 실험, 세정 등 모든 공정은 100-class와 10-class 크린룸에서 작업이 이루어집니다. ◈ 1/4”, 3/8”, 1/2”, and 3/4” VCR type ◈ Tied-diaphragm design for positive shut-off and protecting the rupture of diaphragm ◈ Surfaces finishes to B.A. 25Ra, E.P. 10 Ra or E.P. 5 Ra microinch ◈ Push and lock type handle (DRASTAR patent No.10-1086199) mounted ◈ Threadless type: enhanced particle prevention by adopting the locking-plate seal system (DRASTAR patent #10-0753280) ◈ All works of welding, assembly, test and cleaning are performed in class 100 and class 10 clean-rooms ◈ Design proof pressure: 150% of maximum rated ◈ Applicable for Semiconductor manufacturing gas line, toxic gases, pyrophoric gases, and high corrosive gases ※ 사용 중 가스라인이나 외부의 미세 진동 등으로 인하여 초기 압력 셋팅 값이 미세하게 변동하는 현상을 완전히 해결한 당사 Push and Lock 조절 손잡이 (당사 특허 #10-1086199)를 적용하여 사용하기에 더욱 편리함합니다. 조절 손잡이를 누르면 (lock) 압력 셋팅 값이 변하는 것을 완전히 방지할 수 있고, 손잡이를 앞으로 당기면 (unlock) 자유롭게 원하는 압력으로 다시 셋팅 할 수 있습니다. |
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