압력제어 (Pressure Control)

제품목록

  • R36H

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    3/8~3/4VCR, 저압·대유량타입
  • R61

    IN: 14.8MPa, OUT: 0.99MPa
    1/4"~1/2" NPT / VCR / SWL
  • R71

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    1/4~1/2VCR, 출구고압타입(12MPa)
  • R81

    고순도 반도체 제조 프로세스용(2단식)
    1/4~1/2VCR, 저압·중유량타입
  • RH1

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    1/4~1" VCR, 저압·대유량타입
  • RH2

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    1/4~1/2VCR, 저압·대유량타입
  • RLD

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    ~10K 50A Flange, 파일럿식 대유량타입
  • RVG-10·VG-1

    세이프티 진공 발생기
  • L18

    초소형 반도체 제조 프로세스용
  • L18H

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    소형·중유량타입
  • L20

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    1/4~1/2VCR, 고압·표준유량타입
  • L21

    고순도 반도체 제조 프로세스용
    1/4~3/8VCR, 고압·표준유량타입
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